Індійзберігаючі тонкі плівки оксиду індію-олова, нанесенні методом магнетронного напилення при кімнатній температурі
DOI:
https://doi.org/10.15330/pcss.18.1.69-74Ключові слова:
індійзберігаючі плівки оксиду індію-олова, магнетронне напилення, електричні властивості, оптичні властивостіАнотація
Індійзберігаючі тонкі плівки оксиду індію-олова нанесені за допомогою магнетронного напилення в чистому аргоні та в змішаній атмосфері аргон-кисень при кімнатній температурі. Для плівок, нанесених в чистому аргоні та підданих термообробці при 923 K величина пропускання плівки у видимій області спектра перевищувала 85 % , а питомий опір становив 2420 мкОм·см. Індійзберігаючі тонкі плівки оксиду індію-олова безпосередньо після напилення аморфні, та їх кристалічність покращується з підвищенням температури термообробки. Було встановлено, що зростання температури термообробки не підвищує пропускання плівок при швидкості потоку кисню, що перевищував 0,4 см3/хв.
Посилання
[1] S. Ishibashi, Y. Higuchi, Y. Ota, K. Nakamura, J.V ac. Sci. Technol. A 8(3), 1403 (1990).
[2] Y. Hoshi, R. Ohki, Electrochimica Acta 44, 3927 (1999).
[3] C. Guillén, J. Herrero, Thin Solid Films 480–481, 129 (2005).
[4] J. Ma, D. Zhang, S. Li, J. Zhao, H. Ma, Jpn. J. Appl. Phys. 37, 5614 (1998).
[5] F. O. Aduodija, H. Izumi, T. Ishihara, H. Yoshioka, M. Motoyama, K. Murai, Jpn. J. Appl. Phys. 39, L377 (2000).
[6] H. Kim, C. M. Gilmore, A. Pique, J. S. Horwitz, H. Mattoussi, H. Murata, Z. H. Kafafi, and D. B. Chrisey, J. Appl. Phys. 86, 6451 (1999).
[7] P. K. Biswas, A. De, K. Ortner, S. Korder, Materials Letters 58, 1540 (2004).
[8] P. K. Biswas, A. De, N. C. Pramanika, P. K. Chakraborty, K. Ortner, V. Hock, S. Korder, Materials Letters 57, 2326 (2003).
[9] K. Utsumi, H. Iigusa, R. Tokumaru, P.K. Song, Y. Shigesato, Thin Solid Films 445, 229 (2003).
[10] L. Voisin, M. Ohtsuka, T. Nakamura, Mater. Trans. 51(3), 503 (2010).
[11] L. Voisin, M. Ohtsuka and T. Nakamura, ICCE-17 International Conference, (Hawaii, USA, 2009).
[12] L. Kerkache, A. Layadi, A. Mosser, Journal of Alloys and Compounds 485, 46 (2009).
[13] K.-H. Kim, Journal of Ceramic Processing Research. 8, 19 (2007).
[14] S. Li, X. Qiao, J. Chen, Materials Chemistry and Physics 98, 144 (2006).
[2] Y. Hoshi, R. Ohki, Electrochimica Acta 44, 3927 (1999).
[3] C. Guillén, J. Herrero, Thin Solid Films 480–481, 129 (2005).
[4] J. Ma, D. Zhang, S. Li, J. Zhao, H. Ma, Jpn. J. Appl. Phys. 37, 5614 (1998).
[5] F. O. Aduodija, H. Izumi, T. Ishihara, H. Yoshioka, M. Motoyama, K. Murai, Jpn. J. Appl. Phys. 39, L377 (2000).
[6] H. Kim, C. M. Gilmore, A. Pique, J. S. Horwitz, H. Mattoussi, H. Murata, Z. H. Kafafi, and D. B. Chrisey, J. Appl. Phys. 86, 6451 (1999).
[7] P. K. Biswas, A. De, K. Ortner, S. Korder, Materials Letters 58, 1540 (2004).
[8] P. K. Biswas, A. De, N. C. Pramanika, P. K. Chakraborty, K. Ortner, V. Hock, S. Korder, Materials Letters 57, 2326 (2003).
[9] K. Utsumi, H. Iigusa, R. Tokumaru, P.K. Song, Y. Shigesato, Thin Solid Films 445, 229 (2003).
[10] L. Voisin, M. Ohtsuka, T. Nakamura, Mater. Trans. 51(3), 503 (2010).
[11] L. Voisin, M. Ohtsuka and T. Nakamura, ICCE-17 International Conference, (Hawaii, USA, 2009).
[12] L. Kerkache, A. Layadi, A. Mosser, Journal of Alloys and Compounds 485, 46 (2009).
[13] K.-H. Kim, Journal of Ceramic Processing Research. 8, 19 (2007).
[14] S. Li, X. Qiao, J. Chen, Materials Chemistry and Physics 98, 144 (2006).
##submission.downloads##
Опубліковано
2017-03-15
Як цитувати
Воісін, Л., Отсука, М., Накамура, Т., Петровська, С., Ільків, Б., & Сергієнко, Р. (2017). Індійзберігаючі тонкі плівки оксиду індію-олова, нанесенні методом магнетронного напилення при кімнатній температурі . Фізика і хімія твердого тіла, 18(1), 69–74. https://doi.org/10.15330/pcss.18.1.69-74
Номер
Розділ
Наукові статті
