Nanotexturing of Silicon by Metal-Assisted Chemical Etching

Є. І. Бережанський; С. І. Нічкало; В. Ю. Єрохов; А. О. Дружинін

doi:10.15330/pcss.16.1.140-144

Автор(и)

Є. І. Бережанський Національний університет “Львівська політехніка”
С. І. Нічкало Національний університет “Львівська політехніка”
В. Ю. Єрохов Національний університет “Львівська політехніка”
А. О. Дружинін Національний університет “Львівська політехніка”

DOI:

https://doi.org/10.15330/pcss.16.1.140-144

Ключові слова:

кремнієві наноструктури, фотоелектричний перетворювач, каталітичне хімічне травлення

Анотація

В даній статті розглянуто метод каталітичного хімічного травлення (MacEtch) як один з ефективних способів структурування кремнієвої поверхні з можливістю ефективного управління геометричними параметрами структур та їх розподілом на поверхні підкладки. Представлено технологію текстурування поверхні та отримано структуровані поверхні кремнію з регулярними та нерегулярними типами поверхонь. Дана технологія може бути застосована для нанотекстурування поверхонь кремнієвих фотоелетричних перетворювачів. Запропоновано модель фотоелектричного перетворювача з кратероподібною текстурою поверхні кремнієвої пластини з підвищеним ККД.

Посилання

N.-B. Wong et al, J. Phys. Chem. C, 112, 4444 (2008).

X. Duan et al, Nano Lett., 9(12), 4539 (2009).

N. Geyer, Z. Huang et al, Nano Lett. 9(9), 3106 (2009).

N. Fang, P. Ferreira, X. Li et al, Nano Lett. 10, 1582 (2010).

W. Lee, U. Gösele et al, Nano Lett. 8 (9), 3046 (2008).

C. P. Wong et al, AscNano 3(12), 4033 (2009).

J. de Boor et al, Nanotechnology 21, 095302 (2010).

M. K. Dawood et al, Nanotechnology 21, 205305 (2010).

A. G. Fedorov et al, ACS Appl. Mater. Interfaces 2(4), 969 (2010).

X. Li and P. W. Bohn, Appl. Phys. Lett. 77(16), 2572 (2000).

S. Chattopadhyay and P. W. Bohn, J. Appl. Phys. 96(11), 6888 (2004).[12] J. Zhu et al, Chem. Mater. 21, 2721 (2009).

J. Zhu et al, Chem. Mater. 21, 2721 (2009).

I. S. Chun, E. K. Chow, and X. Li, Appl. Phys. Lett. 92, 191113 (2008).

I. R. Iatsunskyi, Tekhnologiya i Konstruirovanie v Elektronnoi Apparature 6, 52 (2013).

Z. Huang, T. Shimizu, S. Senz et al, J. Phys. Chem. C 114, 10683 (2010).

Z. Huang, T. Shimizu, S. Senz et al, Nano Lett. 9, 2519 (2009).

C. Chartier, S. Bastide, C. Levy-Clement, Electrochimoca Acta 53, 5509 (2008).

R. Chaoui, B. Mahmoudi, Y. Si Ahmed, Phys.Stat.Sol. (a) 205(7), 1724 (2008).

A.A. Druzhinin, I.P. Ostrovskii, Yu.N. Khoverko, S.I. Nichkalo, Ye.I. Berezhanskii, Tekhnologiya i Konstruirovanie v Elektronnoi Apparature 5, 11 (2011).